当前位置:首页 > 机械/设备/模具 > 信息正文

常熟去离子水设备硅晶片厂家

信息更新时间:2024-04-14 12:34:26 点击:84

超纯水设备预处理的多介质过滤是指以石英砂、石榴石或无烟煤等为介质,使水在重力或压力下通过由这些介质构成的床层,而水中的的颗粒污染物质则被介质阻截,从而达到与水分离的过程。粒状介质过滤基于“过滤-澄清”的工作过程去除水中的颗粒悬浮物、杂质和胶体。水处理中常见的过滤类型有顺流单滤料过滤及逆流过滤等。为提高介质过滤的性能,通常可以采用以下几种方法:采用多种介质分层过滤,对于下向流过滤,常用从上到下的介质层排列为无烟煤、石英砂和粒径层级的鹅卵石,这种过滤形式能增大过滤流速,而且过滤器的效能也会得到有效的提升。在过滤单元前投加化学絮凝剂,水与混凝剂在流经砂柱缝隙的过程中反复碰撞进行混凝、反应,当生成的絮状体达到一定体积后被截留在砂柱空隙之中,这些被截留的絮状体进—步吸附所流过水中的细小矾花,使水质得到澄清,运行至一定时候,根据进出口压差的变化进行反向的冲洗,或可以配合压缩空气进行水和气体混合反冲洗,可将絮凝污染物排出体外,达到冲洗干净滤料,这样过滤器就可以恢复正常运行状态。超纯水一般是指电阻率达到18MΩ*cm(25℃)的水。常熟去离子水设备硅晶片厂家

常熟去离子水设备硅晶片厂家

混床超纯水设备不能正常工作的原因有哪些?EDI模块是混床超纯水设备重要的部件,EDI模块的好坏直接影响到超纯水设备的正常工作,影响设备的使用寿命。EDI模块长期没有清洗保养或长期停机没有保护,EDI的膜片和通道滋生有机物,进出水压差增大,造成产水水质下降,电压上升,电流无法调节,无法使用。采用不合理的清洗和消毒药剂,直接导致EDI树脂损坏和破碎,进出水压差增大,造成产水水质和水量全部下降。EDI系统手动运行时,在缺水状态下加电,直接导致膜片、树脂以及EDI膜块硬件烧毁,清洗无效,无法使用。EDI进水前无保安滤器。原水中钙镁盐是由负电离子(负离子)和正电离子(正离子)组成,反渗透设备可以除去其中超过99%的离子。常熟去离子水设备硅晶片厂家

经过预处理系统活性碳吸附后自来水的余氯一般可降到0.1mg/l以下,符合反渗透膜的进水要求。常熟去离子水设备硅晶片厂家

去离子水设备既是离子交换系统,离子交换系统是通过阴、阳离子交换树脂对水中的各种阴、阳离子进行置换的一种传统水处理工艺,阴、阳离子交换树脂按不同比例进行搭配可组成离子交换阳床系统,离子交换阴床系统及离子交换混床系统,而混床系统又通常是用在反渗透等水处理工艺之后用来制取超纯水,高纯水的终端工艺,它是用来制备超纯水、高纯水不可替代的手段之一。去离子水设备工艺流程1、预处理→反渗透→中间水箱→水泵→EDI装置→纯化水箱→纯水泵→紫外线杀菌器→抛光混床→精密过滤器→用水对象(≥18MΩ.CM)。2、预处理→一级反渗透→加药机(PH调节)→中间水箱→第二级反渗透(正电荷反渗膜)→纯水箱→纯水泵→EDI装置→紫外线杀菌器→精密过滤器→用水对象(≥17MΩ.CM)。3、预处理→反渗透→中间水箱→水泵→EDI装置→纯水箱→纯水泵→紫外线杀菌器→精密过滤器→用水对象(≥15MΩ.CM)。常熟去离子水设备硅晶片厂家常熟去离子水设备硅晶片厂家

本文主要围绕【常熟去离子水设备】的产品服务特点进行详细介绍,通过对《常熟去离子水设备硅晶片厂家》全方位的分析概要描述,以诚信为本合作共赢的理念打造更值得信赖的品牌!

联系人:周志俊     联系电话:17306773426
本文信息是由会员(ID:7111 / 发布者IP:223.247.37.*)发布并为此信息负责;由此信息导致您在线上、线下有任何人身、财产损失的,由此信息发布者自行承担全部责任,与云发帖平台无关。请您依照法律法规与此信息负责人签署交易合作合同,防止商业风险 ;如果此信息侵犯了您的权益,您可通过信息联系方式联系发布人删除或电邮:yunfatie@qq.com 申请删除;
上一篇
景德镇纯水设备电镀表面处理公司
下一篇
高安水处理设备集成电路芯片维修

信息检索

分享
电话