超纯水设备新系统投入正常运行前，应对膜元件进行彻底冲洗，才能保证系统操作参数达到设计参数，系统产水水质和产水量达到设计目标，同时防止因超极限的进水流量和压力或水锤对膜的损坏。系统开机启动前，在确保原水不会进入元件内的前提下，按开机前检查事项的内容逐项检查，彻底冲洗原水预处理部分，冲掉杂质和其它污染物，防止进入高压泵和膜元件，特别应该检测预处理出水SDI15值是否合格，进水不含余氯等氧化剂；检查所有阀门并保证所有设置正确，系统产水排放阀、进水控制阀和浓水控制阀必须完全打开；用低压、低流量合格预处理出水排走膜元件内和压力容器内的空气，冲洗压力为0.2~0.4MPa(30~60psi),每支4英寸压力容器冲洗流量为0.6~3.0m/h,每支8英寸压力容器冲洗流量为2.4~12.0m/h,冲洗过程中的所有产水和浓水均应排放至下水道。在冲洗操作中，检查所有阀门和管道连接处是否有渗漏点，紧固或修补漏水点；安装了湿膜的系统至少冲洗30分钟之后关闭膜进水控制阀。安装了干膜的系统，应连续低压冲洗6小时以上或先冲洗1~2小时，浸泡过夜后再冲洗1小时左右。在低压低流量冲洗期间，不允许在预处理部分投加阻垢剂。反渗透RO出水（EDI进水）一般为2-30us（电导率），根据不同需要，超纯水或去离子水一般电阻为2-15MΩ/CM。慈溪半导体超纯水设备硅晶片生产厂家
超纯水设备预处理的多介质过滤是指以石英砂、石榴石或无烟煤等为介质，使水在重力或压力下通过由这些介质构成的床层，而水中的的颗粒污染物质则被介质阻截，从而达到与水分离的过程。粒状介质过滤基于“过滤－澄清”的工作过程去除水中的颗粒悬浮物、杂质和胶体。水处理中常见的过滤类型有顺流单滤料过滤及逆流过滤等。为提高介质过滤的性能，通常可以采用以下几种方法：采用多种介质分层过滤，对于下向流过滤，常用从上到下的介质层排列为无烟煤、石英砂和粒径层级的鹅卵石，这种过滤形式能增大过滤流速，而且过滤器的效能也会得到有效的提升。在过滤单元前投加化学絮凝剂，水与混凝剂在流经砂柱缝隙的过程中反复碰撞进行混凝、反应，当生成的絮状体达到一定体积后被截留在砂柱空隙之中，这些被截留的絮状体进—步吸附所流过水中的细小矾花，使水质得到澄清，运行至一定时候，根据进出口压差的变化进行反向的冲洗，或可以配合压缩空气进行水和气体混合反冲洗，可将絮凝污染物排出体外，达到冲洗干净滤料，这样过滤器就可以恢复正常运行状态。超纯水一般是指电阻率达到18MΩ*cm（25℃）的水。慈溪半导体超纯水设备硅晶片生产厂家
混床超纯水设备不能正常工作的原因有哪些?EDI模块是混床超纯水设备重要的部件，EDI模块的好坏直接影响到超纯水设备的正常工作，影响设备的使用寿命。EDI模块长期没有清洗保养或长期停机没有保护，EDI的膜片和通道滋生有机物，进出水压差增大，造成产水水质下降，电压上升，电流无法调节，无法使用。采用不合理的清洗和消毒药剂，直接导致EDI树脂损坏和破碎，进出水压差增大，造成产水水质和水量全部下降。EDI系统手动运行时，在缺水状态下加电，直接导致膜片、树脂以及EDI膜块硬件烧毁，清洗无效，无法使用。EDI进水前无保安滤器。原水中钙镁盐是由负电离子（负离子）和正电离子（正离子）组成，反渗透设备可以除去其中超过99%的离子。慈溪半导体超纯水设备硅晶片生产厂家
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