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井冈山半导体超纯水设备-井冈山集成电路芯片厂家

信息更新时间:2024-04-14 12:35:18 点击:79

超纯水设备反渗透膜化学清洗后的冲洗,要用清洁水(一般采用反渗透的产品水或至少是软化后的去离子水)进行低压冲洗。先排放并冲洗药液箱,然后再用清洁水完全注满清洗箱以作冲洗之用。从清洗箱中泵入所有的冲洗水冲洗反渗透膜压力容器至排放。如果需要,可进行第二次清洗。一旦RO系统已用清洗箱中的清洁水完全冲洗后,就可用预处理给水进行低压冲洗。给水压力应低于60psi(4bar),冲洗持续进行直至冲洗水干净,且不含任何泡沫和清洗剂残余物。通常这需要15-30分钟左右甚至更长。操作人员可用干净的烧瓶取样,摇匀,监测排放口处冲洗水中洗涤剂和泡沫的残留情况。洗液的去除情况可用测试电导的方法进行,如冲洗水至排放出水的电导在给水电导的10~20%以内,可认为冲洗已接近终点;pH表或试纸也可用于测定,来比较冲洗水至排放出水与给水的pH值是否接近。一旦所有级段已清洗干净,且化学药剂也已冲洗掉,纯水设备可重新开始置于运行程序中,但初始的产品水要进行排放并监测,直至RO产水可满足工艺要求(电导、pH值等)。为得到稳定的RO产水水质,这一段恢复时间有时需要从几小时到几天,尤其是在经过高pH清洗后。超纯水设备整体自动化程度高,遇故障立即自停,具有自动保护功能。井冈山半导体超纯水设备-井冈山集成电路芯片厂家

超纯水设备是采用预处理、反渗透技术、EDI装置以及后级抛光混床处理等方法,将水中的导电介质几乎完全去除。

常见超纯水设备EDI膜装置故障原因介绍

1、通常EDI模块在长期在大电流小流量的情况下运行,导致积聚的热量不能够散发,而造成EDI接近两极的膜片发热变形,浓水压差增大,而水质水量就会不同程度的下降。

2、EDI工业超纯水设备手动运行时,在缺水状态下加电,直接导致膜片和树脂的发热碳化.清洗无效,无法使用。

3、当EDI设备停机时,没有对EDI模块进行采取保护措施,以及运行过程长期不做保养,导致EDI的膜片和通道滋生有机物,进出水压差增大,造成产水水质下降,电压上升,电流无法调节,终无法使用。

4、EDI模块长期没有保养,膜片和通道结垢,进出水压差增大,也会造成产水水质下降,电压上升,电流不能调节,导致后无法使用。

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5、在清洗过程中,采用的清洗、消毒药剂,而导致EDI树脂损坏和破碎,进出水压差增大,造成产水水质和水量全部下降。

6、EDI进水前无保安滤器,直接导致异物堵塞EDI通道,进出水压差增大,造成产水水量严重下降,清洗无效.以及前处理不佳(软化器,亚添加系统,RO等)、控制系统故障/失灵(安全联锁装置,低流量保护的问题)不适当的系统设计(RO初期产水未排放)等。

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7、电流电压超出额定值或人为误操作,系统维护管理不当,没有遵守EDI的使用条件。井冈山半导体超纯水设备-井冈山集成电路芯片厂家井冈山半导体超纯水设备-井冈山集成电路芯片厂家

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