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嵊州纯水机设备|单晶硅半导体所需纯水|反渗透设备公司

信息更新时间:2024-04-14 12:35:10 点击:91

嵊州纯水机设备|单晶硅半导体所需纯水|反渗透设备公司,根据地区不合选用预处理→保安过滤器→一级RO高压泵→一级RO反渗透系统→RO水箱→二级RO高压泵→二级RO水箱→增压泵→EDI膜堆→超纯水箱→纯水输送泵→抛光混床→终端精密过滤→UV紫外线杀菌→设备用水(水质可以达到18MΩ.cm以上即μs/㎝以下,25℃),电镀行业超纯水设备工艺流程可以知道,工艺流程一和工艺流程二采用预处理、单机反渗透、混床或者EDI电去离子都可以使水质达到16MΩ.cm以上即μs/㎝以下,工艺流程三、四相比较,除采用以上工艺之外,还加上了抛光混床,进一步提高超纯水水质,工艺流程五与工艺流程三、四相比,采用了双级反渗透设备系统。后三种工艺流程的水质都可以达到18MΩ.cm以上即μs/㎝以下。EDI超纯水设备与混床超纯水设备相比,EDI技术是先进的超纯水制取工艺,出水水质更稳定,可以连续的生产符合用户要求的超纯水,不停机。也不需要酸碱再生,没有污水排放等困扰,运行费用低,但是前期采购成本要比混床系统高;而混床超纯水设备出水水质会随着使用时间相应下降,设备运行后期水质波动较大,因此不能连续稳定的产水。并且树脂失效后需要具有高技术的工作人员进行酸碱再生。反渗透设备管路材质选择,要考虑内部和外部的问题,内部就是水质对管路的腐蚀,外部就是运行环境。嵊州纯水机设备|单晶硅半导体所需纯水|反渗透设备公司嵊州纯水机设备|单晶硅半导体所需纯水|反渗透设备公司

如果使用自来水,水中的钙镁离子、杂质、无机物离子等会逐渐带入到电镀槽,并在电镀溶液中积累,当积累到一定量之后,会严重影响电镀层的外观质量和内在的防腐蚀性能,并且容易产出不合格的产品,降低合格率。纯水才能彻底清洗干净电镀产品。行业中,电镀小件清洗工艺用水的要求更加高,因为经粗化后的工件表有大量的微孔,敏化工艺前的水洗必须使用纯水,而且水洗还要增加一定的过滤设施,防止水洗水中间的颗粒物在化学镍溶液中形成“自催化中心”,快速恶化化学镍镀液,或者影响电镀质量。对于一些装饰性、外观要求比较高的表面处理行业,用水要求也非常高,特别是产品电镀后的水洗必须使用混床离子交换器处理后的超纯水作为清洗水,电导率低于1us/cm2,彻底清洗工件残余的电镀液和其他杂质。电镀行业超纯水设备工艺流程:自来水原水→原水增压泵→砂过滤器→炭过滤器→软化器(根据地区不合选用)→保安过滤器→RO高压泵→RO反渗透系统→RO水箱→纯水加压泵→离子树脂混床→终端紧密过滤→设备用水(超纯水水质可以达到16MΩ.cm)。某些重金属如铬会对氯的氧化起到催化作用,进而引起膜片的不可逆性能衰减,造成膜的损坏。嵊州纯水机设备|单晶硅半导体所需纯水|反渗透设备公司嵊州纯水机设备|单晶硅半导体所需纯水|反渗透设备公司

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