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光学模压模具退膜——离子刻蚀机

信息更新时间:2024-08-01 11:06:25 点击:48

光学模压模具退膜——离子刻蚀机

RIE(ReactiveIon Etching)离子刻蚀机:系列设备为真空等离子刻蚀机属于电子工业的干法清洗,工艺气体在电子区域形成等离子体,并产生电离气体和释放高能电子组成的气体,电离气体原子通过电场加速时,会释放足够的力量与表面驱逐力紧紧粘合材料或蚀刻表面,等离子体在工件表面发生反应,从而实现清洁、改性、刻蚀的目的,最后将污染物转换为气相,并通过真空泵用连续气体流将其排出。

光学模压模具退膜——离子刻蚀机

特点:1、超低清洗温度;2、旋转装置为行星旋转机构,变频调速,公转式、公自转结合式;3、高真空度真空腔体设计及制造工艺,配置进口真空泵(分子泵);4、采用原装进口高压激励电路技术;5、放电技术;6、智能控制;7、报警及保护。

安徽纯源镀膜科技有限公司(简称纯源镀膜),是由新加坡归国创业团队于2014年创立的高科技公司,主要从事真空纳米镀膜设备的设计、研发、加工制造、销售、售后服务和镀膜生产服务。

公司目前拥有设计、研发、工艺、市场和生产等各方面的专业人才,在纯离子镀膜(Pure Ion Coating,简称PIC)、化学气相沉积(CVD)、磁控溅射、多弧离子镀、离子束刻蚀清洗等真空镀膜应用领域都拥有国内外先进技术。

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