纯源镀膜简介
安徽纯源镀膜科技有限公司（简称纯源镀膜），坐落于合肥市蜀山区大别山路1599号，是由新加坡归国创业团队于 2014 年创立的高科技公司。主要从事中高端真空镀膜设备的设计、研发、制造；并提供多种纳米、微米级膜层的工艺开发，以及各种膜层的镀膜生产和服务。
公司拥有多项核心技术，自主研发出纯离子镀膜设备、离子清洗刻蚀机以及磁控溅射设备等多项专利产品，开发出Ta-C、DLC碳基薄膜，低温氮化物和碳化物膜（TiN,TiSiN,ClAlSiN, CrN，TiC,CrC，CrWC等），以及高致密的金属/合金薄膜等，应用领域从交通工具到光学产品，从大众消费电子到国防军/工及科研院所，从半导体到新能源新材料行业。
公司成立至今，获得多项荣誉资质，于2017年、2020年、2021年三次入选《安徽省首台（套）重大技术装备名单》。纯源镀膜与合肥工业大学成立“纳米膜层与装备联合实验室”。
纯源无尘生产车间
部分设备
PIS系列纯离子真空镀膜设备
设备由纯源镀膜公司自主研发，主要是集纯离子镀膜技术（PIC）、 高能离子束清洗技术（IONBEAM）和磁控溅射技术（SPUTTER）三种技术融合一体，可以镀制厚度范围从十几纳米到20微米的超级类金刚石Ta-C膜层。还可以利用纯离子技术镀制各种纯金属及金属复合膜层如： Cr、Cu、Al、Ag、Pt 、TiN、TiC、CrN等。根据需求，该设备可利用各种镀膜靶材和介质，结合溅射工艺进行镀膜及成膜。可镀制可编程序控制器（PLC）+触摸屏（HMI）组合电气控制系统，全自动控制。
设备采用纯源独特的纯离子镀膜源技术，具有电磁过滤系统和高频电磁扫描系统两大创新，全自动模块化设计。电磁过滤系统可以过滤掉中性粒子、原子团等杂质，提高了离化率，使膜层更加致密，硬度更高，耐磨性显著提高。
PI系列高端纯离子镀膜机
图3 PI系列高端纯离子镀膜机
采用独特的纯离子镀膜源技术，设备腔体结构由装载腔室+真空镀膜工艺腔室组合而成，镀膜工艺系统由纯离子镀膜(PIC)+离子束清洗(IONBEAM)融合而成。配有高效的电磁扫描系统和过滤系统，离子束能量和方向可调，经过磁过滤后沉积粒子的离化率接近百分之百，并且可以过滤掉大颗粒，因此制备的纳米薄膜非常致密和光滑，抗腐蚀性能好，与工件的结合力很强，在均匀性、致密性、结合度、硬度、摩擦系数具有独特优势；制备出的优质Ta-C碳基薄膜，膜层中的碳四面体结构（金刚石键SP3键）可以达到75%以上的，其物理化学性质和金刚石极其类似，薄膜具有极高的硬（>75GPa），极低的摩擦系数（<0.1），耐腐蚀性、光学透明度等一系列优异特征。可将镀膜件（基体）寿命比通常的DLC镀膜延长7-10倍以上。
IS系列磁控溅射镀膜机
图4 IS系列磁控溅射镀膜机
IS系列磁控溅射镀膜机是采用本公司成熟的技术：高能离子束清洗（Ionbeam Cleaning）+磁控溅射源（Magnetron Sputtering ），设备采用全自动化控制，模块化集成优化，设备功率高、稳定性能好、操作简单且维护方便。为满足不同的镀膜需求，腔室内可设计配置平面圆形靶、条形靶和圆柱靶等多种类型靶材，可获得致密度高、均匀性和一致性能好的多层复合膜，包括各种金属、半导体、铁磁材料,以及绝缘的氧化物、陶瓷薄膜等；
可用于液晶显示、硬质耐磨、太阳能电池、材料保护和防腐、建筑物玻璃、光学和装饰膜层、磁光信息存储、铁磁材料等各个领域。优化磁场设计，维护方便；有效水冷设计，靶材可以连续24小时工作。
主要涂层
Ta-C和DLC碳基薄膜
当碳元素通过SP³键结合，就会形成金刚石；通过SP²键结合，就会形成石墨。类金刚石薄膜性能介于金刚石和石墨之间，根据SP3键的含量不同可以分为Ta-C(四面体非晶碳)和DLC（类金刚石） 薄膜。Ta-C涂层是无氢且SP3键的含量高的膜层，与通常的DLC膜层相比，Ta-C膜层具有更高的硬度和致密性，耐高温、耐腐蚀性能。Ta-C膜层硬度可达55GPa, 而DLC的硬度在20GPa以下，Ta-C的工作温度可达650℃，而DLC通常只能在300℃温度以下工作。 Ta-C是纯源镀膜公司利用其纯离子镀膜核心技术制备的高端碳基薄膜，膜层的SP3键含量高达75%以上，其物理化学性质与金刚石极其类似，可广泛用于汽油车和柴油车发动机关键零部件、高端模具、高端切削刀具、半导体、医疗器械及国防军/工；另外，通过参数调节，纯源镀膜设备也可制备出SP3键的含量较低的DLC膜层，用于对于膜层性能要求较低的各个领域。
图5 Ta-C和DLC碳基薄膜的应用图集
高致密金属膜
采用独特纯离子镀膜和磁控溅射技术使得反应离子能量高，离子离化率程度高，与基材结合紧密，可制备Cr、Cu、Al、Ti、Fe、Ni、Pt、Ag、Au等金属及合金复合薄膜；可用于消费电子、半导体行业以及绝缘材料表面金属化处理。
图6 致密金属镀膜样品图
低温氮/碳化合物膜
通过不同气氛条件下的调控，结合纯离子镀膜和磁控溅射技术可以制备出低温氮化铬、低温氮化钛，低温碳化铬等不同颜色和成分的化合物薄膜。膜层适合于绝缘材料、切削刀具、半导体、消费电子材料等领域的低温镀膜，可满足材料的高硬度、耐磨损、耐腐蚀、防刮花以及提高导电、导热性能的需求。
图7 低温氮/碳化合物镀膜样品图
本文主要围绕【真空镀膜】的产品服务特点进行详细介绍，通过对《Ta-C/DLC薄膜PVD纳米涂层金属膜氮/碳化合物涂层》全方位的分析概要描述，以诚信为本合作共赢的理念打造更值得信赖的品牌！
