磁控溅射镀膜设备主要是采用本公司成熟的专利技术：高能离子束清洗+磁控溅射源。设备采用全自动化控制，模块化集成优化，设备功率高、稳定性能好、操作简单且维护方便。为满足不同的镀膜需求腔室内可设计配置平面圆形靶、条形靶和圆柱靶等多种靶材，可获得致密度高、均匀性能好的多层复合膜，包括各种金属、半导体、铁磁材料以及绝缘的氧化物、陶瓷薄膜等。适合研发及批量镀膜服务。
主要应用：
>金属、非金属及陶瓷氧化物的各类膜层和复合膜层；
>太阳能电池、液晶显示;
>磁光信息存储、铁磁材料；
>硬质耐磨、材料保护和防腐等各个领域。
产品特点：
>灵活性高、应用范围广；
>专利技术、工艺成熟;
>膜层性能优越：硬度高、摩擦系数低;
>多种膜层系列、可大批量高效率生产等。
本文主要围绕【磁控溅射】的产品服务特点进行详细介绍，通过对《真空镀膜设备：磁控溅射镀膜设备系列》全方位的分析概要描述，以诚信为本合作共赢的理念打造更值得信赖的品牌！
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